基于一种新微细加工技术的亚波长光栅的研制

被引:9
作者
李以贵
陈迪
朱军
杨春生
金森义明
机构
[1] 上海交通大学微纳米科学技术研究院,上海交通大学微纳米科学技术研究院,上海交通大学微纳米科学技术研究院,上海交通大学微纳米科学技术研究院,日本东北大学机械电子系上海,上海,上海,上海,日本宫城县仙台市
关键词
电子束扫描曝光; 快速原子束刻蚀; 亚波长光栅;
D O I
暂无
中图分类号
TN253 [光纤元件];
学科分类号
摘要
描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术 ,即电子束 (EB)扫描曝光得到相应的亚微米级的线宽图形 ,再利用快速原子束刻蚀设备获得了高深宽比的立体结构。用此加工技术获得了 10 0nm以下的刻蚀精度 ,并研制成功亚波长光栅。该亚微米线宽微细加工技术可用于布拉格光栅、半导体激光器、无反射表面等需要亚微米结构的器件中。
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