低压等离子喷涂NiCrAlY涂层的恒温氧化特征分析

被引：9

作者：

张玉娟

孙晓峰

金涛

刘敏

管恒荣

胡壮麒

机构：

[1] 中国科学院金属研究所

[2] 广州有色金属研究院

[3] 中国科学院金属研究所辽宁沈阳

[4] 辽宁沈阳

[5] 广东广州

来源：

材料保护 | 2003年 / 01期

关键词：

低压等离子喷涂; NiCrAlY涂层; 恒温氧化; 表面氧化膜;

D O I：

10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2003.01.006

中图分类号：

TG174.44 [金属复层保护];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

低压等离子喷涂 (LPPS)NiCrAlY涂层在 110 0℃恒温氧化 10 0h ,氧化动力学曲线为抛物线状 ,氧化速率常数kp=0 .5 2× 10 - 6 mg- 2 ·cm- 4·s- 1,涂层表面生成α -Al2 O3 保护膜 ,并有Y富集其中。氧化初期 ,氧化膜中夹杂少量θ -Al2 O3 ,很快转变成α -Al2 O3 。氧化膜随氧化时间的延长而增厚 ,并局部与基体开裂、剥落 ,剥落后的涂层表面有孔洞和粘结脊的印记

引用

页码：14 / 16

页数：3

共 6 条

[1] NiCrAlY涂层的表面状态对高温氧化行为的影响 [J].

张玉娟 ;

孙晓峰 ;

管恒荣 ;

胡壮麒 .

中国有色金属学报, 2002, (06) :1099-1103

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