TiN/NbN纳米多层薄膜的交变应力场和超硬效应

被引：4

作者：

赖倩茜

虞晓江

戴嘉维

李戈扬

宁兆元

机构：

[1] 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室

[2] 苏州大学薄膜材料重点实验室上海

[3] 上海

[4] 上海苏州大学薄膜材

来源：

真空科学与技术 | 2002年 / 04期

关键词：

TiN/NbN超晶格薄膜; 调制结构; 超硬度; 交变应力场;

D O I：

10.13922/j.cnki.cjovst.2002.04.018

中图分类号：

TN304.055 [];

学科分类号：

0805 ; 080501 ; 080502 ; 080903 ;

摘要：

为了研究纳米多层薄膜的超硬效应 ,采用反应溅射法制备从 1 4nm至 2 7nm不同调制周期的一系列TiN/NbN纳米多层膜。高分辨电子显微镜对薄膜的调制结构和界面生长方式的观察发现 ,TiN/NbN膜具有很好的调制结构 ,并呈现以面心立方晶体结构穿过调制界面外延生长的多晶超晶格结构特征。显微硬度测量表明 ,TiN/NbN纳米多层膜存在随调制周期变化的超硬效应。薄膜在调制周期为 8 3nm时达到HK39 0GPa的最高硬度。分析认为 ,两种不同晶格常数的晶体外延生长形成的交变应力场 ,对材料有强化作用 ,这是TiN/NbN纳米多层膜产生超硬效应的主要原因

引用

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页数：4

共 9 条

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