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下一代光刻技术的设备
被引：5
作者：
翁寿松
机构：
[1] 无锡市罗特电子有限公司江苏无锡
来源：
关键词：
下一代光刻技术;
X射线光刻技术;
极紫外线光刻技术;
纳米压印光刻技术;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号：
1401 ;
摘要：
下一代光刻技术是指≤32nm工艺节点的光刻技术。介绍了下一代光刻技术与设备,包括X射线光刻技术、极紫外线光刻技术和纳米压印光刻技术等。
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