MoO3/γ-Al2O3,MoO3/TiO2和MoO3/SiO2的还原性质及表面状态研究

本文以XPS为检测手段研究了浸渍法制备的MoO3/γ-Al2O3、MoO3/TiO2和MoO3/SiO2三个系列样品的还原性质。用XPS测定还原后与还原前强度比的比值,实验结果表明阈值后的样品还原后强度比急剧增大,说明晶相MoO3从内孔向颗粒外表面大幅度迁移。而单层MoO3的性质却各不相同,TiO2上的单层MoO3还原后部分凝聚,SiO2上单层则部分迁移,而γ-Al2O3上的单层MoO3既不迁移也不凝聚,亦即单层MoO3的稳定性是Mo（Al）>Mo（Ti）>Mo（Si）。这也是MoO3与这三个载体表面作用力强弱的顺序。用计算机对Mo3d谱峰解叠,结果表明,几乎所有样品还原后都只含有四价和五价钼。Mo（Al）和Mo（Si）体系还原后MoⅣ的百分数随负载量的增大而增大。我们认为反映了两种载体表面区域的不均匀性。Mo（Ti）体系还原后MoⅣ百分数在阈值附近出现转折点,阈值前各点还原性质相同,说明在应用还原为探测手段时,TiO2表面表现为均匀的。以MoⅣ百分数衡量时,三个体系的还原性为Mo（Al）<Mo（Ti）<Mo（Si）。与MoO3和这三种载体表面作用力强弱的顺序一致。