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碳涂覆光纤的最新进展
被引:3
作者
:
詹伟民
论文数:
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引用数:
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0
机构:
西安应用光学研究所三室
詹伟民
赵晓峰
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机构:
西安应用光学研究所三室
赵晓峰
机构
:
[1]
西安应用光学研究所三室
来源
:
应用光学
|
1996年
/ 03期
关键词
:
碳涂覆光纤,可靠性,抗氢渗因子;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN818 [光纤传输线、光缆];
学科分类号
:
080804
[电力电子与电力传动]
;
摘要
:
本文首先介绍了气密性光纤的发展过程,接着重点分析了联涂覆光纤的两个重要参数:长期可靠性和抗氢渗透性。引入了新的衡量碳涂覆光纤抗氢渗参量--抗氢渗因子,最后介绍了西安应用光学研究所碳涂覆光纤在"八·五"末的进展情况,以及国内外现状比较。
引用
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页数:3
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