反应溅射掺锡氧化铟薄膜成份与结构的研究

被引：6

作者：

杨绍群

沈祖贻

李越

董保兴

刘英杰

机构：

[1] 秦皇岛耀华工业技术玻璃厂

来源：

关键词：

掺锡氧化铟薄膜; 反应溅射; 薄膜的成分与结构;

D O I：

10.13385/j.cnki.vacuum.1990.04.002

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

本文介绍了采用直流磁控反应溅射技术，在氩氧混合气体条件下制备掺锡氧化铟薄膜（简称ＩＴＯ膜）的工艺。给出的ＤＰＳ、ＡＥＳ、ＸＰＣ的分析结果表明：ＩＴＯ薄膜的成份为Ｉｎ＿２Ｏ＿３和ＳｎＯ＿２组成；其ＩＴＯ薄膜为立方结构。

引用

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