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金属电子显微分析.[M].陈世朴;王永瑞 编.机械工业出版社.1982,
银纳米线的TEM表征
被引：11
作者：
迟广俊
姚素薇
张卫国
王宏智
范君
机构：
[1] 天津大学化工学院,天津大学化工学院,天津大学化工学院,天津大学化工学院,鞍山钢铁集团公司长甸医院天津,天津,天津,天津,鞍山
来源：
关键词：
电沉积;
银纳米线;
透射电子显微镜;
模板合成;
D O I：
暂无
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
通过交流电沉积的方法,以多孔铝阳极氧化膜（Al2O3/Al）为模板,制备金属银纳米线.透射电子显微镜（TEM）分析表明:银纳米线长度平均约为5μm,直径25mm;银纳米线在多孔Al2O3/Al孔内互相平行,显示凸凹相间的条纹结构.选区电子衍射（SAED）证实,银纳米线具有面心立方（FCC）的多晶结构,探讨了银纳米线凸凹相间条纹结构的形成机理.
引用
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页码：532 / 535
页数：4
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