脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积TiN和TiCN薄膜摩擦磨损特性研究

被引:19
作者
马胜利
马大衍
王昕
徐可为
介万奇
机构
[1] 西北工业大学凝固技术国家重点实验室
[2] 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室
[3] 西北工业大学凝固技术国家重点实验室 陕西西安
[4] 陕西西安
关键词
硬质薄膜; PCVD; 结合力; 摩擦磨损性能;
D O I
10.16078/j.tribology.2003.03.003
中图分类号
TG174.44 [金属复层保护];
学科分类号
080503 ;
摘要
对比研究了脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积TiN和TiCN薄膜的摩擦磨损特性,用扫描电子显微镜、X射线衍射仪及销-盘摩擦磨损试验机分析薄膜形貌和结合力,考察了不同沉积条件下2种薄膜的摩擦磨损过程及其影响因素.结果表明,TiCN薄膜具有较高硬度、良好的膜基结合力,相对于TiN薄膜而言表现出更低的摩擦系数和更好的耐磨性能.在实际使用中应注重成分和结构优化设计,以保证薄膜具有良优良的减摩性能.
引用
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共 1 条
[1]   脉冲电压幅值对等离子体化学气相沉积TiN薄膜膜基结合行为的影响 [J].
马胜利 ;
李雁淮 ;
徐可为 ;
不详 .
金属学报 , 2000, (01) :77-80