工频磁场对细胞缝隙连接通讯功能的影响

为了探讨极低频（ＥＬＦ）磁场可能存有的促癌作用或协同促癌作用，观察了５０Ｈｚ磁场对ＣＨＬ细胞间缝隙连接通讯（ＧＪＩＣ）功能的影响。利用离子电渗注射法将荧光染料引入细胞内，以５分钟后的荧光偶合细胞（ＤＣＣ）数作为ＧＪＩＣ功能的指标。研究了不同浓度的十四酰基咐拜醇酯（ＴＰＡ）、不同强度的工频磁场及工频磁场与ＴＰＡ（５ｎｇ／ｍｌ）共同作用对ＣＨＬ细胞ＧＪＩＣ的影响。结果表明，ＴＰＡ对ＧＪＩＣ的抑制具有浓度依赖关系，ＴＰＡ抑制ＣＨＬ细胞ＧＪＩＣ的阈浓度在１～５ｎｇ／ｍｌ之间；ＣＨＬ细胞经０.８０ｍＴ的工频磁场暴露２４小时后的ＤＣＣ数降至６．０８±１．５９，与空白对照组（９．８４±２．２７）比较，差异有显著性（Ｐ＜０．０５）；０．２０，０．４０，０．８０ｍＴ强度的工频磁场与５ｎｇ／ｍｌＴＰＡ共同作用后的ＤＣＣ数分别降至５．５２±１．５３，５．００±１．２２，４．００±１．２９，与单用５ｎｇ／ｍｌＴＰＡ组（６．３８±１．３９）比较，差异也有显著性（Ｐ＜０．０５）。说明一定强度的工频磁场具有抑制或协同抑制ＧＪＩＣ的作用，提示其可能存有促癌或协同促癌作用。