ICP-AES分析高纯氧化镥中痕量稀土杂质的研究

被引：5

作者：

潘凤仪

谭保凤

董国全

机构：

[1] 北京有色金属研究总院

来源：

中国稀土学报 | 1987年 / 04期

关键词：

痕量稀土杂质; 雾化效率; 光源; 辐射源; ICP-AES; 分析线; AES; ⅢB族元素; 稀土元素; 气动雾化器; 测定下限;

D O I：

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中图分类号：

学科分类号：

摘要：

使用ICP光源和倒数线色散率4.5A/wm的平面光栅摄谱仪,研究不同型的同心气动雾化器的雾化效率、乙醇的影响及电感耦合等离子体发射光谱分析的有关条件。Lu2O3溶液浓度为10mg/ml,用LB喇叭型雾化器引入光源中,获得15个稀土杂质的测定下限为0.1～5μg/g。本方法的相对均方偏差为4.6～12.8％,加料回收率为88～117％。方法适用于纯度为99.996％高纯Lu2O3中稀土杂质的分析。

引用

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