TiAl基合金的辉光离子渗氮试验

被引：6

作者：

刘宗茂

孟永强

高青

孙世清

毛磊

机构：

[1] 河北科技大学材料科学与工程学院

[2] 河北科技大学材料科学与工程学院河北石家庄

[3] 河北石家庄

来源：

热加工工艺 | 2004年 / 06期

关键词：

钛铝基合金; 离子渗氮; 显微硬度; 渗层厚度;

D O I：

10.14158/j.cnki.1001-3814.2004.06.013

中图分类号：

TG156.8 [化学热处理];

学科分类号：

080201 ; 080503 ;

摘要：

研究了TiAl基合金的辉光离子渗氮。渗氮气氛为NH3,渗氮温度分别为850℃、900℃、950℃,渗氮时间分别采用2h到12h不等。结果表明:TiAl基合金经辉光离子渗氮后,在表面形成由氮化物层和过渡层组成的氮化层,氮化层形成速度明显快于高温气体渗氮。采用NH3气氛、900℃×9h工艺参数时,渗层厚度可达12μm,渗层的显微硬度值可达1097HV0.1。

引用

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