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化学共沉淀工艺对ATO粉体粒度的影响
被引:6
作者:
陶亮
张道礼
梁延彬
程有光
机构:
[1] 华中科技大学电子科学与技术系
来源:
关键词:
掺锑二氧化锡;
化学共沉淀法;
X-射线衍射;
扫描电镜;
D O I:
暂无
中图分类号:
TB44 [粉末技术];
学科分类号:
0805 ;
摘要:
采用化学共沉淀法制备掺锑二氧化锡粉体(ATO),用X-射线衍射法和扫描电子显微镜对粉体粒度作了表征。系统研究了退火温度、反应体系pH值、掺锑量和煅烧温度等工艺参数对最终粉体粒径的影响规律,并得到了最佳工艺操作参数:反应体系pH值应选1~3较低范围内,锑掺杂剂摩尔分数在5%,热处理温度应控制在550~650℃。用量子尺寸效应和能带理论解释了所得粉体的发色机理。
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页数:3
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