聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源

被引：1

作者：

王凯歌

王雷

王鹏业

牛憨笨

机构：

[1] 中科院物理研究所软物质实验室

[2] 西安应用光学研究所第研究室

[3] 中科院西安光学精密机械研究所光电子部

来源：

应用光学 | 2004年 / 01期

关键词：

微束斑X射线源; 电子束离子源; 电子束离子陷阱; 离子光学聚束系统;

D O I：

暂无

中图分类号：

O434.1 [X射线];

学科分类号：

摘要：

利用电子束离子源 (EBIS)或者电子束离子陷阱 (EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面 ,离子束与靶面作用并复合辐射特征 X射线 ;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用 ,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳米级的微束斑 X射线。本文介绍这一新型微束斑 X射线源的结构、机理及其特性等。

引用

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