波长1064nm脉冲激光高阈值反射膜的研制附视频

被引：14

作者：

付雄鹰

孔明东

胡建平

范正修

机构：

[1] 成都精密光学工程研究中心!成都

[2] 中国科学院上海光机所!上海

来源：

强激光与粒子束 | 1999年 / 04期

关键词：

HfO2/SiO2反射膜; 激光诱导损伤阈值; 电子束蒸发;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN24 [激光技术、微波激射技术];

学科分类号：

摘要：

研究ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试，分别采用了反应蒸镀ＨｆＯ２、反应离子辅助蒸镀ＨｆＯ２、反应离子辅助蒸镀金属Ｈｆ的源材料形成ＨｆＯ２薄膜。采用这三种工艺制备了ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜，在中心波长１０６４ｎｍ处，反射率Ｒ≥９９．５％，其中反应蒸镀ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜损伤阈值最高，可达６０Ｊ／ｃｍ２（１０６４ｎｍ，５ｎｓ）。

引用

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