离子镀氮化钛膜层综合剖析

被引：9

作者：

韩效溪

丁正明

林行方

机构：

[1] 上海交通大学应用物理系,上海交通大学理化中心,上海交通大学材料科学及工程系,

来源：

上海交通大学学报 | 1988年 / 01期

关键词：

表面分析; X 射线光电子谱法; 俄歇电子谱法; X 射线衍射; 氮化钛; 氧化钛; 薄膜;

D O I：

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中图分类号：

学科分类号：

摘要：

本文应 X 用射线光电子能谱(XPS)、俄歇电子能谱(AES)、X 射线衍射(XRD)等技术,对用空心阴极离子镀法(HCD)生长的氮化钛膜层作了综合测试,对膜层的组分和结构作了分析,着重论述了外表面氧化膜及界面过渡层的产生和作用。由 XRD 分析得知,氮化钛晶粒中与衬底有良好共格关系的那些晶面平行于膜面生长。

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页码：77 / 86+124 +124

页数：11

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