等离子体喷涂中涂层形成的模拟

被引：21

作者：

吴新灿

陈熙

机构：

[1] 清华大学工程力学系

[2] 清华大学工程力学系北京

[3] 北京

来源：

清华大学学报(自然科学版) | 2003年 / 11期

关键词：

等离子体喷涂; 涂层形成; 涂层孔隙率; 表面粗糙度; 模拟;

D O I：

10.16511/j.cnki.qhdxxb.2003.11.017

中图分类号：

TG174.442 [喷镀法];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

为预测等离子体喷涂所获得涂层的孔隙率、表面粗糙度等性质及其与喷射的熔融颗粒的直径、速度、温度等参数间的关系,采用基于对涂层形成机理分析所建立的一组基本法则,并假设被喷涂的处于熔融状态的颗粒的直径、温度、速度及撞击于基板的位置均为Gauss型分布,对涂层形成进行了模拟研究。结果表明:涂层中总是存在孔隙;熔融颗粒的平均直径愈大,则所得涂层孔隙率愈小;涂层愈厚,其表面也愈粗糙;随着熔融颗粒平均速度或平均温度的升高,涂层孔隙率与表面粗糙度均减小,这与实验观察一致。

引用

页码：1503 / 1506

页数：4

共 5 条

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