酞菁光盘染料的研究进展

被引：15

作者：

彭必先

高德涛

闫天堂

机构：

[1] 中国科学院理化技术研究所!北京,中国科学技术大学应用化学系!合肥,中国科学技术大学应用化学系!合肥

来源：

关键词：

酞菁光盘染料; CD-R酞菁染料; 光盘记录介质; 酞菁染料; 存储介质;

D O I：

暂无

中图分类号：

TQ61 [染料及中间体工业];

学科分类号：

0817 ;

摘要：

总结了酞菁光盘染料近十几年的合成进展 ,以及其基本类型、结构与光物理性质之间的关系 ,并在应用方面总结了酞菁光盘染料结构与应用性能之间的关系 ,对其在CD R的应用前景方面作了简要分析 .

引用

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