微弧氧化减摩陶瓷层的生成及其影响因素

被引：12

作者：

高殿奎

姜桂荣

王玉林

机构：

[1] 燕山大学机械工程学院

[2] 燕山大学材料与化工学院秦皇岛

[3] 秦皇岛

来源：

中国有色金属学报 | 2001年 / S2期

关键词：

微弧氧化; 石墨; 减摩; 成膜速度;

D O I：

10.19476/j.ysxb.1004.0609.2001.s2.045

中图分类号：

TG174.451 [氧化法];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

为了降低微弧氧化陶瓷层的摩擦系数 ,采用在微弧氧化电解液中加入石墨减摩相的方法 ,在微弧氧化过程中同步沉积出含石墨相的陶瓷层。研究结果表明 :膜层厚度和成膜速度开始时都是随氧化时间的延长而增加 ,达到最大值后 ,又随时间的延长而降低 ;石墨含量 5g/L时成膜厚度最大 ;石墨减摩相的加入 ,大幅降低了微弧氧化陶瓷层的摩擦系数。

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页码：199 / 202

页数：4

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共 13 条

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