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应用IBAD方法制备纯钛表面多孔TCP/HA涂层材料的微观分析
被引：13
作者：
赵宝红
白薇
崔福斋
冯海兰
机构：
[1] 北京大学口腔医学院口腔修复科,北京大学口腔医学院口腔修复科,清华大学生物材料与工程系,北京大学口腔医学院口腔修复科北京,北京,北京,北京
来源：
关键词：
离子束辅助沉积;
磷酸三钙/羟基磷灰石;
扫描电镜;
原子力显微镜;
X射线衍射;
X射线能谱分析;
D O I：
暂无
中图分类号：
R783.1 [牙科材料学];
学科分类号：
100301 [口腔基础医学];
摘要：
目的:为了改善钛种植体的生物相容性,对纯钛表面沉积多孔磷酸三钙/羟基磷灰石(Tricalciumphosphate/hydroxyapatite,TCP/HA)复合涂层材料的表面结构和化学成分进行分析,并与沉积羟基磷灰石(Hydroxyapatite,HA)的钛表面进行对比。方法:用离子束辅助沉积方法(Ionbeamassisteddeposition,IBAD)在纯钛表面沉积HA和TCP/HA涂层材料,通过扫描电镜(Scanningelectronmicroscope,SEM)、原子力显微镜(Atomicforcemicroscopy,AFM)、X射线能谱分析(EnergydispersiveX-rayanalysis,EDX)以及X射线衍射(X-raydiffraction,XRD)技术,检测两种涂层材料表面的微观形态和化学成分,并进行比较。结果:SEM和AFM显示TCP/HA涂层材料表面存在多孔结构,表面化学成分分析显示TCP/HA涂层的钙磷比低于HA,XRD证实TCP/HA涂层内同时存在TCP和HA两种化合物。结论:用IBAD方法在纯钛表面成功地沉积了具有多孔结构的TCP/HA复合涂层材料,该涂层材料和基体材料的结合牢固,改善了基体材料的生物相容性,是一种有应用前景的种植体表面涂层材料。
引用
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页码：385 / 388
页数：4
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