Patterning ULSI circuits

被引：1

作者：

Carruthers, JR ^{[1
]}

机构：

[1] INTEL,COMPONENTS RES,SANTA CLARA,CA

来源：

ELECTRON-BEAM, X-RAY, EUV, AND ION-BEAM SUBMICROMETER LITHOGRAPHIES FOR MANUFACTURING VI | 1996年 / 2723卷

关键词：

D O I：

10.1117/12.240458

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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