Laser-damage processes in cleaved and polished CaF2 at 248nm

被引：8

作者：

Reichling, M ^{[1
]}

Gogoll, S ^{[1
]}

Stenzel, E ^{[1
]}

Johansen, H ^{[1
]}

Huisinga, M ^{[1
]}

Matthias, E ^{[1
]}

机构：

[1] FREE UNIV BERLIN, FACHBEREICH PHYS, D-14195 BERLIN, GERMANY

来源：

LASER-INDUCED DAMAGE IN OPTICAL MATERIALS: 1995: 27TH ANNUAL BOULDER DAMAGE SYMPOSIUM, PROCEEDINGS | 1996年 / 2714卷

关键词：

UV laser-damage; single crystal CaF2; damage thresholds; surface modification; cracking; ablation; SEM; Mirage Technique;

D O I：

10.1117/12.240356

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：260 / 272

页数：13