Fast and accurate optical proximity correction based on aerial image simulation

被引：10

作者：

Hanawa, T ^{[1
]}

Kamon, K ^{[1
]}

Nakae, A ^{[1
]}

Nakao, S ^{[1
]}

Moriizumi, K ^{[1
]}

机构：

[1] MITSUBISHI ELECTR CORP,ULSI LAB,ITAMI,HYOGO 664,JAPAN

来源：

OPTICAL MICROLITHOGRAPHY IX | 1996年 / 2726卷

关键词：

optical proximity correction; optical proximity effect; aerial image simulation; modified illumination; biasing; optical lithography;

D O I：

10.1117/12.240929

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页码：640 / 650

页数：11