Stress relaxation and critical layer thickness of high temperature superconductor thin films, heterostructures and superlattices.

被引：12

作者：

Contour, JP ^{[1
]}

Abert, A ^{[1
]}

Defossez, A ^{[1
]}

机构：

[1] THOMSON CSF,CNRS,LCR,F-91404 ORSAY,FRANCE

来源：

OXIDE SUPERCONDUCTOR PHYSICS AND NANO-ENGINEERING II | 1996年 / 2697卷

关键词：

HTSC thin film; superlattice; strained epitaxial layer; critical thickness;

D O I：

10.1117/12.250242

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

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页数：11