Thick PMMA layer formation as an X-ray imaging medium for micromachining

被引：2

作者：

Vladimirsky, O ^{[1
]}

Calderon, G ^{[1
]}

Vladimirsky, Y ^{[1
]}

Manohara, H ^{[1
]}

机构：

[1] LOUISIANA STATE UNIV,CTR ADV MICROSTRUCT & DEVICES,BATON ROUGE,LA 70803

来源：

ELECTRON-BEAM, X-RAY, EUV, AND ION-BEAM SUBMICROMETER LITHOGRAPHIES FOR MANUFACTURING VI | 1996年 / 2723卷

关键词：

micromachining; thick PMMA resist; X-ray lithography; high aspect ratio lithography; latent image formation;

D O I：

10.1117/12.240489

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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页数：12