Development of critical dimension measurement scanning electron microscope for ULSI(S-8000series)

被引：4

作者：

Ezumi, M ^{[1
]}

Otaka, T ^{[1
]}

Mori, H ^{[1
]}

Todokoro, H ^{[1
]}

机构：

[1] HITACHI LTD,INSTRUMENT DIV,HITACHINAKA,IBARAKI 312,JAPAN

来源：

METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL FOR MICROLITHOGRAPHY X | 1996年 / 2725卷

关键词：

critical dimension measurement scanning electron microscope; schottky emission; retarding; ExB deflection;

D O I：

10.1117/12.240146

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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