Plasma processing of advanced materials

被引：9

作者：

Collins, G

Rej, DJ

机构：

[1] CTR RECH PHYS PLASMAS,LAUSANNE,SWITZERLAND

[2] LOS ALAMOS NATL LAB,TECH STAFF,LOS ALAMOS,NM 87545

来源：

MRS BULLETIN | 1996年 / 21卷 / 08期

关键词：

D O I：

10.1557/S0883769400035673

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

收藏

页码：26 / 31

页数：6

相关论文

empty

未找到相关数据