Design considerations and performance of 1kHz KrF excimer lasers for DUV lithography

被引：1

作者：

Morton, RG ^{[1
]}

Fomenkov, I ^{[1
]}

Partlo, W ^{[1
]}

Das, P ^{[1
]}

Sandstrom, R ^{[1
]}

机构：

[1] CYMER LASER TECHNOL,SAN DIEGO,CA 92127

来源：

OPTICAL MICROLITHOGRAPHY IX | 1996年 / 2726卷

关键词：

high pulse rate industrial KrF lasers; deep ultraviolet photolithography;

D O I：

10.1117/12.240983

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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页数：10