Near UV to IR optical characterization of YF3 thin films deposited by evaporation and ion beam processes.

被引：11

作者：

Quesnel, E ^{[1
]}

Berger, M ^{[1
]}

Cigna, J ^{[1
]}

Duca, D ^{[1
]}

Pelle, C ^{[1
]}

Pierre, F ^{[1
]}

机构：

[1] CEA,LETI,DOPT,COUCHES MINCES OPT,F-38054 GRENOBLE 9,FRANCE

来源：

DEVELOPMENTS IN OPTICAL COMPONENT COATINGS | 1996年 / 2776卷

关键词：

Yttrium fluoride; Ion Beam Sputtering; e-beam evaporation; optical constants; UV; IR;

D O I：

10.1117/12.246824

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：366 / 372

页数：7