Optical characterization of polycrystalline silicon thin films

被引：8

作者：

McGahan, WA ^{[1
]}

Spady, BR ^{[1
]}

Johs, BD ^{[1
]}

Laparra, O ^{[1
]}

机构：

[1] NANOMETR INC,SUNNYVALE,CA 94086

来源：

METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL FOR MICROLITHOGRAPHY X | 1996年 / 2725卷

关键词：

polycrystalline silicon; poly-Si; reflectance; dispersion model; EMA;

D O I：

10.1117/12.240144

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页码：450 / 459

页数：10