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Interferometric lithography exposure tool for 180-nm structures
被引：18
作者：
Zaidi, SH
Brueck, SRJ
Schellenberg, FM
Mackay, RS
Uekert, K
Persoff, JJ
机构：
来源：
EMERGING LITHOGRAPHIC TECHNOLOGIES
|
1997年
/
3048卷
关键词：
interferometric lithography;
300-mm wafer;
180-nm CD;
D O I：
10.1117/12.275785
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
引用
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页码：248 / 254
页数：7
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