Lithography model tuning: Matching simulation to experiment

被引：20

作者：

Thornton, SH ^{[1
]}

Mack, CA ^{[1
]}

机构：

[1] ADV MICRO DEVICES INC,AUSTIN,TX 78741

来源：

OPTICAL MICROLITHOGRAPHY IX | 1996年 / 2726卷

关键词：

D O I：

10.1117/12.240908

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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页码：223 / 235

页数：13

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