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Optimization of CMOS infrared detector microsystems
被引：3
作者：
Schneeberger, N
[1
]
Paul, O
[1
]
Baltes, H
[1
]
机构：
[1] ETH ZURICH,PHYS ELECT LAB,CH-8093 ZURICH,SWITZERLAND
来源：
MICROMACHINED DEVICES AND COMPONENTS II
|
1996年
/
2882卷
关键词：
infrared;
thermoelectric sensors;
micromachining;
microsystem;
CMOS;
finite element simulation;
D O I：
10.1117/12.250695
中图分类号：
O43 [光学];
学科分类号：
070207 ;
0803 ;
摘要：
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页码：122 / 131
页数：10
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