Crystal engineering of oxide films in the fabrication of high-T-c Josephson tunnel junction

被引：5

作者：

Koinuma, H ^{[1
]}

Tsuchiya, R ^{[1
]}

Kawasaki, M ^{[1
]}

机构：

[1] TOKYO INST TECHNOL,ENGN MAT RES LAB,MIDORI KU,YOKOHAMA,KANAGAWA 226,JAPAN

来源：

OXIDE SUPERCONDUCTOR PHYSICS AND NANO-ENGINEERING II | 1996年 / 2697卷

关键词：

D O I：

10.1117/12.250259

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：183 / 191

页数：9