Photolithography in anisotropically etched grooves

被引：35

作者：

Linder, S ^{[1
]}

Baltes, H ^{[1
]}

Gnaedinger, F ^{[1
]}

Doering, E ^{[1
]}

机构：

[1] ETH ZURICH,PHYS ELECT LAB,CH-8093 ZURICH,SWITZERLAND

来源：

NINTH ANNUAL INTERNATIONAL WORKSHOP ON MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEMS, IEEE PROCEEDINGS: AN INVESTIGATION OF MICRO STRUCTURES, SENSORS, ACTUATORS, MACHINES AND SYSTEMS | 1996年

关键词：

D O I：

10.1109/MEMSYS.1996.493826

中图分类号：

TP [自动化技术、计算机技术];

学科分类号：

0812 ;

摘要：

引用

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