Optical coatings for UV photolithography systems

被引：11

作者：

Bauer, HH ^{[1
]}

Heller, M ^{[1
]}

Kaiser, N ^{[1
]}

机构：

[1] CARL ZEISS,D-73446 OBERKOCHEN,GERMANY

来源：

DEVELOPMENTS IN OPTICAL COMPONENT COATINGS | 1996年 / 2776卷

关键词：

UV optical coatings; microstructure; fluorides; UV-lithography; thickness variation; masking techniques;

D O I：

10.1117/12.246823

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：353 / 365

页数：13