A cleaning process for X-ray masks

被引：1

作者：

Saitoh, Y ^{[1
]}

Ohkubo, T ^{[1
]}

Okada, I ^{[1
]}

Sekimoto, M ^{[1
]}

Matsuda, T ^{[1
]}

机构：

[1] NIPPON TELEGRAPH & TEL PUBL CORP, LSI LABS, ATSUGI, KANAGAWA 24301, JAPAN

来源：

PHOTOMASK AND X-RAY MASK TECHNOLOGY III | 1996年 / 2793卷

关键词：

D O I：

10.1117/12.245199

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页码：198 / 203

页数：6