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Simulations and experiments with the phase shift focus monitor
被引：9
作者：
Brunner, TA
[1
]
Mih, RD
[1
]
机构：
[1] IBM CORP,ADV SEMICOND TECHNOL CTR,HOPEWELL JCT,NY 12533
来源：
OPTICAL MICROLITHOGRAPHY IX
|
1996年
/
2726卷
关键词：
lithography;
focus control;
process window;
depth of focus;
focus metrology;
simulation;
stepper control;
optical lithography;
focus budget;
process control;
lens heating;
D O I：
10.1117/12.240909
中图分类号：
O43 [光学];
学科分类号：
070207 ;
0803 ;
摘要：
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页码：236 / 243
页数：8
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