Stochastic modeling in lithography: autocorrelation behavior of catalytic reaction-diffusion systems (vol 8, 029701, 2009)

被引：1

作者：

Mack, Chris A.

机构：

来源：

JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS | 2012年 / 11卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1117/1.JMM.11.2.029801

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

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共 1 条

[1] Stochastic modeling in lithography: autocorrelation behavior of catalytic reaction-diffusion systems [J].

Mack, Chris A. .

JOURNAL OF MICRO-NANOLITHOGRAPHY MEMS AND MOEMS, 2009, 8 (02)