Investigation on application of chromium-based materials to attenuated phase shift masks for DUV exposure

被引：7

作者：

Hong, SB ^{[1
]}

Kim, E ^{[1
]}

Jiang, ZT ^{[1
]}

Bae, BS ^{[1
]}

No, K ^{[1
]}

机构：

[1] KOREA ADV INST SCI & TECHNOL,DEPT MAT SCI & ENGN,YUSEONG KU,TAEJON 305701,SOUTH KOREA

来源：

PHOTOMASK AND X-RAY MASK TECHNOLOGY III | 1996年 / 2793卷

关键词：

attenuated phase shift mask; optical constant; refractive index; absorption coefficient; chromium oxide; thin film;

D O I：

10.1117/12.245204

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页码：134 / 137

页数：4