Plasma chemistry aspects of a-Si:H deposition using an expanding thermal plasma (vol 84, pg 2426, 1998)

被引：17

作者：

van de Sanden, MCM

Severens, RJ

Kessels, WMM

Meulenbroeks, RFG

Schram, DC

机构：

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1999年 / 85卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1063/1.369257

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

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[1] Plasma chemistry aspects of a-Si:H deposition using an expanding thermal plasma [J].

van de Sanden, MCM ;

Severens, RJ ;

Kessels, WMM ;

Meulenbroeks, RFG ;

Schram, DC .

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1998, 84 (05) :2426-2435