Comment on "Atomic transport and chemical stability during annealing of ultrathin Al2O3 films on Si"

被引：14

作者：

Copel, M ^{[1
]}

机构：

[1] IBM Corp, Div Res, TJ Watson Res Ctr, Yorktown Hts, NY 10598 USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1103/PhysRevLett.86.4713

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

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