Comment on "Quantum interferometric optical lithography: Exploiting entanglement to beat the diffraction limit"

被引：65

作者：

Agarwal, GS ^{[1
]}

Boyd, RW

Nagasako, EM

Bentley, SJ

机构：

[1] Phys Res Lab, Ahmadabad 380009, Gujarat, India

[2] Univ Rochester, Inst Opt, Rochester, NY 14627 USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1103/PhysRevLett.86.1389

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

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