High accuracy overlay measurements

被引：3

作者：

Silver, R ^{[1
]}

Potzick, J ^{[1
]}

Scire, F ^{[1
]}

Larrabee, R ^{[1
]}

机构：

[1] NATL INST STAND & TECHNOL,GAITHERSBURG,MD 20899

来源：

METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL FOR MICROLITHOGRAPHY X | 1996年 / 2725卷

关键词：

D O I：

10.1117/12.240093

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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页数：11