Photoinduced conversion of optically active defects in germanium-doped silica
被引:26
作者:
Crivelli, B
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机构:Istituto Nazionale Fisica della Materia, Dipartimento di Fisica dellșUniversitá di Milano, I-20133 Milano
Crivelli, B
Martini, M
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机构:Istituto Nazionale Fisica della Materia, Dipartimento di Fisica dellșUniversitá di Milano, I-20133 Milano
Martini, M
Meinardi, F
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机构:Istituto Nazionale Fisica della Materia, Dipartimento di Fisica dellșUniversitá di Milano, I-20133 Milano
Meinardi, F
Paleari, A
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机构:Istituto Nazionale Fisica della Materia, Dipartimento di Fisica dellșUniversitá di Milano, I-20133 Milano
Paleari, A
Spinolo, G
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机构:Istituto Nazionale Fisica della Materia, Dipartimento di Fisica dellșUniversitá di Milano, I-20133 Milano
Spinolo, G
机构:
[1] Istituto Nazionale Fisica della Materia, Dipartimento di Fisica dellșUniversitá di Milano, I-20133 Milano
来源:
PHYSICAL REVIEW B
|
1996年
/
54卷
/
23期
关键词:
D O I:
10.1103/PhysRevB.54.16637
中图分类号:
T [工业技术];
学科分类号:
08 ;
摘要:
Optical absorption, photoluminescence (PL), and electron paramagnetic resonance (EPR) data on unirradiated and UV-irradiated Ge-doped silica are reported. The analysis of the UV-induced effects shows the following facts: (i) both components of the 5-eV absorption band are partially bleached, as well as the PL excited within this absorption band; (ii) more consistent UV-induced changes arise at higher energies where bands at 5.8 and 6.4 eV grow during the treatment; (iii) Ge-E' and Si-E' EPR centers are UV generated, confirming their involvement in the photoconversion process but ruling out previous attribution of the 6.4 eV to Ge-E' centers; and (iv) the absorption band at 6.4 eV shows previously unobserved emission properties, probably due to excitation transfer processes.