Characterisation and optimisation of CD control for 0.25 mu m CMOS applications

被引：8

作者：

Ronse, K ^{[1
]}

deBeeck, MO ^{[1
]}

Yen, A ^{[1
]}

Kim, KH ^{[1
]}

VandenHove, L ^{[1
]}

机构：

[1] IMEC,B-3001 LOUVAIN,BELGIUM

来源：

OPTICAL MICROLITHOGRAPHY IX | 1996年 / 2726卷

关键词：

D O I：

10.1117/12.240924

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页码：555 / 563

页数：9