Solvent resistant photocurable "liquid teflon" for microfluidic device fabrication (vol 126, pg 2322, 2004)

被引：16

作者：

Rolland, JP

Van Dam, RM

Schorzman, DA

Quake, SR

DeSimone, JM

机构：

来源：

JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY | 2004年 / 126卷 / 26期

关键词：

D O I：

10.1021/ja040811t

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

引用

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页码：8349 / 8349

页数：1

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共 1 条

[1] Solvent-resistant photocurable "liquid teflon" for microfluidic device fabrication [J].

Rolland, JP ;

Van Dam, RM ;

Schorzman, DA ;

Quake, SR ;

DeSimone, JM .

JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, 2004, 126 (08) :2322-2323