Layout post processing in the ion projection lithography (IPL)

被引：1

作者：

Hartmann, H ^{[1
]}

Petraschenko, A ^{[1
]}

Schunk, S ^{[1
]}

Steinmetz, R ^{[1
]}

Haugeneder, E ^{[1
]}

Löschner, H ^{[1
]}

机构：

[1] Aiss GmbH, Vienna, Austria

来源：

16TH EUROPEAN CONFERENCE ON MASK TECHNOLOGY FOR INTEGRATED CIRCUITS AND MICROCOMPONENTS | 2000年 / 3996卷

关键词：

D O I：

10.1117/12.377097

中图分类号：

TP3 [计算技术、计算机技术];

学科分类号：

0812 ;

摘要：

引用

页码：105 / 107

页数：3