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There and back again: Using simulated diffraction images to optimize data processing by Elves
被引：7
作者：
Holton, James M.
[1
]
机构：
[1] Univ Calif San Francisco, Lawrence Berkeley Natl Lab, BMB PDB, Berkeley, CA 94720 USA
来源：
ACTA CRYSTALLOGRAPHICA A-FOUNDATION AND ADVANCES
|
2008年
/
64卷
关键词：
simulation X-ray diffraction;
automatic structure solution;
threshold of solvability;
D O I：
10.1107/S0108767308097535
中图分类号：
O6 [化学];
学科分类号：
0703 ;
摘要：
MS.42.2
引用
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页码：C77 / C77
页数：1
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