Towards sub-0.1 mu m CD measurements using scatterometry

被引：10

作者：

Minhas, BK ^{[1
]}

Prins, SL ^{[1
]}

Naqvi, SSH ^{[1
]}

McNeil, JR ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV NEW MEXICO,CTR HIGH TECHNOL MAT,ALBUQUERQUE,NM 87131

来源：

METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL FOR MICROLITHOGRAPHY X | 1996年 / 2725卷

关键词：

scatterometry; metrology; zero order gratings; conical diffraction;

D O I：

10.1117/12.240134

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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页数：11